Deproteksi gugus fungsi

1.      Deproteksi gugus fungsi Silyl ethers

Cara  selektif yang dapat digunakan untuk deproteksi eter TBS alilik, benzilik, homoalilik dan aril primer menggunakan DMSO berair pada 90 C (Skema 9). Keseluruhan gugus terproteksi TBS lainnya serta fungsi eter THP, metilendioksi, eter benzil, metil eter, dan aldehida tetap tidak terpengaruh. Juga benzil TBS eter dapat dideproteksi secara selektif dengan adanya aril TBS eter.

Langkah terakhir dari sintesis membutuhkan penghilangan tiga eter TBS, salah satunya untuk melindungi posisi anomerik di 29 (Skema 10). Deproteksi anomerik dengan memakai TBAF dipersulit oleh penataan ulang Lobry de Bruyn–Alberda van Eckenstein dan degradasi katalis basa lainnya dan metode yang agak asam (misalnya PPTS dalam MeOH pada 55 C) tidak memberikan hasil walaupun waktu reaksi yang diperpanjang. Namun buffer TBAF dengan AcOH memberikan target yang diinginkan 30 dalam hasil 83%. Masalah yang berhubungan dengan kebasaan fluoride digaris bawahi oleh contoh terbaru lainnya yang diambil dari sintesis Boger dari sistem cincin CD dan DE vankomisin.14 Upaya penghilangan gugus TBS dari 31 disertai dengan retroaldolisasi dari subunit -hidroksifenilalanin yang dihasilkan untuk menghasilkan 33 dalam hasil 61%. Sekali lagi, buffer campuran reaksi dengan AcOH menekan reaksi samping yang tidak diinginkan dan memberikan produk terlindungi yang diinginkan 32 dalam 60% hasil

Deproteksi dapat dilakukan secara baik dengan fotolisis menggunakan lampu merkuri bertekanan sedang (lampu Hanovia dan sumur celup Pyrex)

2.      Deproteksi gugus fungsi Alkil eter

deproteksi membutuhkan keadaan yang cukup keras (pemanasan pada 185 °C selama 12 jam) yang dapat menyebabkan dekomposisi molekul yang lebih sensitif. Dalam kasus dimetoksibenzena (misalnya 42) mono-O-demetilasi selektif dapat dicapai (Skema 16). LDA—tetapi bukan natrium bis(trimetilsilil)amida—juga dapat secara selektif menghilangkan proteksi benzil eter seperti 43 dengan adanya gugus metoksi.

Hal yang sama pada, alil eter juga dipecah dengan prosedur, deproteksi selektif gugus benzil dimungkinkan (Skema 18). Gugus dimetilfenilsililoksi (tetapi bukan difenil-tert-butilsililoksi) juga dapat dihilangkan dengan metode ini.

3.      Deproteksi gugus diol

Tahap penutupan dari sintesis Hui memerlukan deproteksi simultan dari benzilidena asetal dan isopropilidena asetal (Skema 52) menggunakan DDQ dalam refluks asetonitril berair. Langkah terakhir, hidrogenolisis dari tiga fungsi benzil eter pada 124 menghasilkan tricolorin A (125).

Perlindungan simultan dan selektif dari dua kelompok hidroksi ekuator dalam metil dihidrokuinat (140, Skema 59) sebagai butana-2,3-diasetal adalah fitur strategis utama dalam sintesis inhibitor 3-dehidrokuinat sintase.Kemudian dalam sintesis, deproteksi zat antara 142 memerlukan tiga langkah: (a) hidrolisis eter TMS dan butana-2,3-diasetal dengan asam trifluoroasetat; (b) pembelahan isopropil fosfonat dengan TMSBr; dan (c) hidrolisis metil ester dengan NaOH encer.

4.      Deproteksi oksim,amina dan azina

Terdapat dua mekanisme berbeda yang dilaporkan untuk deproteksi oksim yang dikatalisis Cu, imina, dan azina. Sementara deoksimasi oksidatif diusulkan untuk reaksi yang dipromosikan Cu(I),dalam kasus Cu(II) itu hanya koordinasi dengan nitrogen yang meningkatkan polaritas dari C=N dan menyebabkan serangan nukleofilik oleh air. Dalam sistem katalitik saat ini ada campuran Cu(0) dan Cu(I). Untuk menguji kemungkinan deoksimasi oksidatif, sebuah percobaan adalah dengan melakukannya di bawah atmosfer yang sangat inert. Diamati bahwa reaksinya sama efektif di bawah atmosfer inert juga. Dalam situasi ini, koordinasi Cu(0)/Cu(I) dengan nitrogen C=N adalah mekanisme yang sangat mungkin untuk deproteksi oksim, imina, dan azina. Mekanisme alternatif juga dimungkinkan untuk oksim saja. Ini dimulai dengan oksidasi penyisipan Cu(0) dalam oksim untuk menghasilkan zat antara A (Skema 1). Setelah,  serangan nukleofilik air memotong C=N melalui perantara B melepaskan karbonil.

sumber: https://pubs.rsc.org/en/content/getauthorversionpdf/c4ra08803d 

serta jurnal

video: https://youtu.be/qfVSmVprFz8 

permasalahan:

1. Kenapa dalam deproteksi gugus alkil eter membutuhkan keadaan yang cukup keras yaitu dengan pemanasan pada 185°C selama 12 jam?

2. Kenapa Pada deproteki gugus fungsi silyl ether Deproteksi dapat dilakukan secara baik dengan fotolisis menggunakan lampu merkuri bertekanan sedang?

3. Pada deproteksi yang terakhir, yang digunakan adalah oksim, amina dan azina yang mungkin kurang umum digunakan seperti alcohol, amina, dll. Hal apa yang dapat menyebabkan oksim, amina dan azina digunakan pada deproteksi yang terakhir?